Hög renhet titan sputtering mål

När du behöver stabila,-högpresterande tunna filmer för halvledar-, optisk eller industriell beläggning, avgör din sputtrande målkvalitet allt.

Ti-förstoftningsmål är det primära källmaterialet som används vid magnetronförstoftning (PVD) för att deponera rent titan, TiN, TiAlN och funktionella titan-baserade filmer på dina substrat.

Ti TargetSpecifikationer

Punkt	Specifikation
Material	Kommersiellt rent titan (Grade 1, Grade 2) eller titanlegeringar
Renhet	3N5 (99,95%), 4N (99,99%), 4N5 (99,995%), 5N (99,999%) för halvledare
Densitet	Större än eller lika med 4,51 g/cm³
Föroreningar kontrollerade	Fe, Cr, Ni, O, N, C, H (kontrollerad per renhetsgrad)
Former	Runda, rektangulära, roterande (cylindriska), anpassade profiler
Storlek	Ø50 – Ø300 mm, tjocklek 3–10 mm, längd: 4000 mm
Bindningsalternativ	Bakplåt av koppar eller aluminium, mekanisk fastspänning, monolitisk
Ytfinish	Maskinbearbetad, sandblästrad, polerad, syra-rengöring, vakuumförpackad

Typer av Ti Sputtering-mål du kan välja

Inga.	Material	Sammansättning	Nyckelfunktioner	Typiska applikationer
1	CP Titanium (Gr1 / Gr2)	Större än eller lika med 99,5 % Ti	Låga föroreningar, stabil sputtering	Elektronik, dekorativa beläggningar
2	Titanium med hög renhet (4N / 5N)	Större än eller lika med 99,99 % Ti	Ultra-rena filmer	Halvledare, optiska beläggningar
3	Ti-6Al-4V mål	Ti-6Al-4V	Legeringsfilmavsättning, hög hållfasthet	Funktionella och strukturella beläggningar
4	TiAl / TiAl₃-mål	30–50 % Al	Producerar TiAlN super-hårda beläggningar	Skärverktyg, formar
5	TiN Keramiskt mål	Ti + N	Sätter in guld-färgade TiN-filmer	Slitstyrka, dekorativa beläggningar
6	TiSi₂-mål	Ti:Si ≈ 1:2	Silicidfilmer med låg resistivitet	Halvledarkontakter och grindar

Hur dina titanmål tillverkas

Vakuumsmältning

Tar bort gas och metalliska föroreningar

Varmisostatisk pressning (HIP)

Eliminerar inre porositet och förbättrar densiteten

CNC precisionsbearbetning

Garanterar måttnoggrannhet och planhet

Ultra-ren förpackning

Vakuum- eller kvävetätning förhindrar oxidation och kontaminering

Detta säkerställer att du får hög-densitet, låg-partikel och stabil sputterprestanda varje gång.

Vad du bör ange vid beställning

För att få det exakta målet du behöver, ange bara:

Material och kvalitet (Ti 99,99%, Ti-6Al-4V, TiAl, etc.)
Form (rund, rektangulär, roterande, anpassad)
Storlek & tolerans (diameter × tjocklek eller längd × bredd × tjocklek)
Erforderliga gränser för renhet och föroreningar
Ytrengöring & förpackning
Kvantitet och målleveransdatum
Ditt sputtersystems modell och applikation

FAQ

1. Vad är leveranstiden för ti-sputtermål?

Standardstorlekar: Skickas inom 2 veckor

Anpassade mål: 2–4 veckor, beroende på storlek, renhet och bindningsmetod

2. Kan du anpassa titanförstoftningsmål?

Ja. Du kan helt anpassa dina mål, inklusive:

Mått och tjocklek
Renhet och legeringssammansättning
Ytfinish och rengöringsnivå
Stödplatta eller monteringsmetod

3. Var dina titanmål används

Halvledare: ledande skikt, IC-kontaktfilmer
Optiska beläggningar: anti-reflexfilmer och dekorativa filmer
Industriella PVD-beläggningar: TiN, TiAlN, slitstarka lager-
Fordon, flyg och energi: funktionella beläggningar med hög-prestanda

Få dina titanförstoftningsmål från en pålitlig tillverkare

Oavsett om du behöverstandardmål i titanellerhelt anpassade hög-renhetsmål, Baoji Zecheng Metal Materials Co., Ltd. är redo att stödja dina beläggningsprojekt med snabb respons, stabil kvalitet och konkurrenskraftiga priser.

Skicka oss dina målspecifikationer idag så får du enteknisk offert och ledtid inom 24 timmar.

📩 Kontakta ossnu för att få dina sputtermål skräddarsydda för ditt PVD-system.

Populära Taggar: titan sputtering mål, Kina titan sputtering mål tillverkare, leverantörer, fabrik

Titan sputtering mål